ИССЛЕДОВАНИЕ ЭЛЕКТРОННЫХ СВОЙСТВ ТОНКИХ ПЛЕНОК Si P И SI B3, ПОЛУЧЕННЫХ ИМПЛАНТАЦИЕЙ ИОНОВ Р+ И В+ В Si(111)
DOI:
https://doi.org/10.65164/z480md43Ключевые слова:
ионная имплантация, силицидные пленки, электронная структура, запрещенная зона, Оже-электронная спектроскопия, фотоэлектронная спектроскопия, плазмон.Аннотация
В данной работе исследованы электронные и зонно-энергетические свойства тонких
пленок SiP и SiB3, сформированных на поверхности Si(111) методом высокодозной
имплантации ионов P+ и B+ с низкой энергией.
Установлено, что при имплантации происходит аморфизация приповерхностного слоя
кремния, а последующий термический отжиг приводит к образованию монокристаллических
силицидных пленок. На основе анализа фотоэлектронных и Оже-спектров выявлено сужение
запрещенной зоны, изменение плотности электронных состояний, а также уменьшение
энергий поверхностных и объемных плазменных колебаний. Полученные результаты
демонстрируют возможность управления электронной структурой поверхности
полупроводников методом ионной имплантации.
Библиографические ссылки
[1] Rysbaev A.S., Juraeva D.Sh., Khujaniyazov J.B. and et. al. Optimal technological modes of ion
implantation and following annealing for forming thin nanosized films of silicides // Eurasian Journal
of Physics and Functional Materials Article. 2020, 4(1), p. 50-60, DOI: 10.29317/EJPFM.2020040106
[2] Rysbaev A.S., Normurodov M.T., Khujaniyozov J.B., Rysbaev A.A., Normurodov D.A. On the
Formation of Silicide Films of Metals (Li, Cs, Rb, and Ba) During Ion Implantation in Si and Subsequent
Thermal Annealing // Journal of Surface Investigation: X-ray, Synchrotron and Neutron Techniques,
2021, Vol. 15, No. 3, pp. 607–610. DOI: 10.1134/S1027451021030319
[3] B.E. Umirzakov, I.R. Bekpulatov, Z.A. Tursunmetova. Influence of Various Impacts on the
Composition and Structure of the Surface of Single-Crystal Si // Journal of Surface Investigation: Xray,
Synchrotron and Neutron Techniques, 2023, Vol. 17, No. 1, pp. 317-320. Doi:
10.1134/S1027451022050391
[4] А.А. Рисбаев, Т.А. Турмамбеков, И.Р. Бекпулатов, З.А. Турсунметова. Влияние ионной
имплантации на структуру и элементный состав поверхности чистого кремния // Международная
научно–практическая онлайн конференция «Современные научные исследования:
актуальные проблемы, достижения и инновации», Южно-Казахстанский университет имени
Мухтара Ауезова г. Шымкент и Международный казахско-турецкий университете г. Туркестан-
2021 г. с. 34-38
